ガラス用研磨材 | 製品情報 | 株式会社レゾナック・セラミックス

酸化セリウム質

ガラス研磨用の酸化セリウム質研磨材です。液晶パネル用ガラス基板、光学ガラス、ハードディスク用ガラス基板、フォトマスク、水晶などさまざまな用途の研磨に対応できるよう、多種グレードを揃えております。

用途に応じ幅広いラインナップを用意

グレード	粒度分布（μm） D50	概要・特徴
AR	1.1～2.1	研磨レートと面品質のバランスが取れたグレードです。代表用途としては、液晶パネル用ガラス基板、ハードディスクガラス基板、光学ガラス研磨等ですが、幅広く各種ガラスの研磨に使用されています。微細な粒子から粗めな粒子まで取り揃えております。
T	1.3～2.1	CeO2純度が高く、光学ガラス、水晶、石英などの硬質材料を研磨する場合に高研磨レートが得られる研磨材です。
FL	1.3～2.1	CeO2純度が高く、光学ガラス、水晶、石英などの硬質材料を研磨する場合に高研磨レートが得られる研磨材です。
NZ	0.9～1.1	高精度な仕上げ面を要求される用途向けのグレードです。微細で軟らかい粒子で構成されており、潜傷を低く抑えることが可能です。特にフォトマスクや光学硝子の仕上げ研磨に使用されています。
VZ	0.2～0.3	シャープで微細な粒度分布が特徴です。特に高精度な仕上げ面が必要な研磨に使用されます。 ※スラリーでの供給となります。

このページに記載されているデータは代表値であり保証値ではありません。

『ショウロックス』は、日本、韓国における株式会社レゾナックの登録商標です。