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会社概要・沿革
会社概要
| 会社名 | 株式会社レゾナック・セラミックス |
|---|---|
| 設立 | 1985年11月20日 |
| 社長 | 高橋 直也（たかはし なおや） |
| 決算期 | 12月期 |
| 資本金 | 460百万円 （2024年1月4日現在） |
| 発行済み株式数 | 9,200株 （2024年1月4日現在） |
| 株主 | 株式会社レゾナック |
| 従業員 | 339名 （2024年1月現在） |
| 役員 （2024年4月1日現在） |
代表取締役 高橋 直也（非常勤） 取締役 小宮 崇義（非常勤） 取締役 北山 和弘（非常勤） 監査役 重松 郁男（非常勤） |
| 拠点 | 本社・塩尻工場 所在地 〒399-6461 長野県塩尻市大字宗賀1 従業員数 139名 （2024年1月現在） 敷地面積 300,000㎡ 富山工場 所在地 〒931-8577 富山県富山市西宮町3番1号 従業員数 139名 （2024年1月現在） 敷地面積 210,000㎡ 横浜工場 所在地 〒221-8517 神奈川県横浜市神奈川区恵比須町8 従業員数 61名 （2024年1月現在） 敷地面積 約140,000㎡※注1 ※注1（株）レゾナック横浜事業所の敷地面積 |
| 事業内容 | 研削材、耐火材、超高圧製品、フィラー材、酸化チタン、ガラス用研磨材の製造・販売 |
| 中途採用比率 | 労働施策総合推進法に基づく中途採用比率の公表 （公表日：2021年8月31日） ・2018年：78.9% ・2019年：73.7% ・2020年：42.9% |
沿革
| 事業のあゆみ | 製品のあゆみ | |
| 1932年 昭和７年 |
日本沃度（株）塩尻工場設立 本社・塩尻工場 |
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| 1933年 昭和８年 |
日本アルミナ工業所設立 横浜工場日満アルミニウム(株)設立 富山工場 |
アルミナ生産開始 横浜工場炭化ケイ素（C・GC）生産開始 本社・塩尻工場アルミニウム生産開始 富山工場 |
| 1934年 昭和９年 |
モランダム（A）生産開始 本社・塩尻工場 |
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| 1938年 昭和13年 |
アルミナの原料をボーキサイトに全面切替 横浜工場溶融アルミナ（WA）生産開始 本社・塩尻工場 |
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| 1939年 昭和14年 |
昭和電工（株）設立 本社・塩尻工場横浜工場 |
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| 1943年 昭和18年 |
昭和電工（株）と合併 昭和電工（株）富山工場となる 富山工場 |
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| 1950年 昭和25年 |
赤松発電所（水力発電）竣工 本社・塩尻工場 |
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| 1958年 昭和33年 |
水酸化アルミ（H-W）市販開始 横浜工場 |
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| 1959年 昭和34年 |
高炭素フェロクローム生産開始 富山工場 |
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| 1969年 昭和44年 |
高炭素フェロニッケル生産開始 富山工場 |
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| 1970年 昭和45年 |
水酸化アルミをハイジライト※と命名 横浜工場 |
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| 1978年 昭和53年 |
立方晶窒化ホウ素砥粒（SBN）生産開始 本社・塩尻工場 |
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| 1979年 昭和54年 |
富山昭和電工（株）に社名変更 富山工場 |
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| 1982年 昭和57年 |
高純度アルミナ（UA）生産開始 横浜工場溶射材（PSP）生産開始 本社・塩尻工場 |
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| 1983年 昭和58年 |
溶融シリカ、スポンジチタン生産開始 富山工場 |
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| 1985年 昭和60年 |
富山昭和（株）に社名変更 富山工場 |
本社・塩尻工場 |
| 1987年 昭和62年 |
アルミナビーズ（アルナビーズ）生産開始 富山工場 |
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| 1988年 昭和63年 |
昭和タイタニウム（株）に社名変更 富山工場 |
高純度酸化チタン生産開始 富山工場 |
| 1990年 平成２年 |
丸み状アルミナ（AS）生産開始 横浜工場 |
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| 1994年 平成６年 |
空気分離装置の受託生産開始（HLO） 富山工場 |
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| 2000年 平成12年 |
光触媒用酸化チタン（ジュピター・NTB）生産開始 富山工場 |
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| 2003年 平成15年 |
中国連雲港昭菱磨料有限公司を設立 本社・塩尻工場 |
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| 2007年 平成19年 |
酸化セリウム（SHOROX）受託生産開始 富山工場 |
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| 2014年 平成26年 |
昭和電工セラミックス（株）設立 本社・塩尻工場昭和電工セラミックス（株）に社名変更 東北金属化学（株）を吸収合併 富山工場 |
酸化セリウム（SHOROX）を富山に集約 富山工場 |
| 2015年 平成27年 |
昭和電工セラミックス（株）横浜工場設立 横浜工場 |
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| 2023年 令和５年 |
（株）レゾナック・セラミックスに社名変更 本社・塩尻工場富山工場横浜工場 |
『水酸化アルミ ハイジライト』は、韓国、タイ、オーストラリア、中国、EU、イギリス、インドネシア、シンガポール、カナダにおける株式会社レゾナックの登録商標です。
